 銅製程用研磨液：
EPL 2361, EPL2362, EPL3000 series, 採用 colloidal silica 為研磨顆粒，精準控制之生產過程確保研磨液於產品生產上的高良率。
銅製程研磨墊清潔液：
EPL 8151 能有效活化並清潔銅製程中研磨墊表面，增強研磨墊的使用壽命。
銅製程後 post cleaning solution ：
EPL 8153 提供良好的晶圓表面清洗效果，並可有效的降低相關製程使用之成本。
 Color filter polish
EPL 301series 能有效的消除黃光製程中造成的表面缺陷。
BTA
EPLB10 series 對於抑制銅膜氧化的生成有很好的效果，目前普遍的提供國內半導體的客戶使用。
3M CUNO filter
可針對CMP slurry、 DI water及 Chemical 提供精密過濾要求之產品, 同時本公司可提供相關濾液分析服務。
特殊應用
本公司亦可配合客戶之特殊應用需求，開發客製化之產品。
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